洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产湿度范围为35—45%。

电子行业生产工艺过程产生的有毒有害气体种类繁多，且量也大，所以需要的排风量和新风量也大。新排风的节能措施也是行业特点之一，排放前要做处理，使排风负荷环保要求。

电子行业生产工艺有抗静电、抗微振的要求，并且大宗气体和特种气体种类多，对纯度和洁净度要求高：

1.电子制造厂万级洁净室内的噪声级(空态)：不应大于65dB(A)

2.电子制造厂洁净室垂直流洁净室满布比不应小于60%，水平单向流洁净室不应小于40%，否则就是局部单向流了。

3.电子制造厂洁净室与室外的静压差不应小于10Pa，不同空气洁净度的洁净区与非洁净区之间的静压差不应小于5Pa

4.电子制造行业万级洁净室内的新鲜空气量应取下列二项中的值：

5.补偿室内排风量和保持室内正压值所需的新鲜空气量之和。

6.保证供给洁净室内每人每小时的新鲜空气量不小于40m3。

万级净化车间的洁净度：洁净度10000级cleanliness class 10000（P2万级实验室即ISO7级）即大于等于0.5μm的尘粒数大于35000粒／m3 (35粒/L)到小于等于350000粒／m3(350粒／L)；大于等于5μm的尘粒数大于300粒／m3(0.3粒/L)到小于等于3000粒／m3(3粒/L)。

压差及温湿度控制：

1）温度:干盘管系统控制。

2）湿度:空调箱调节通过感测的信号,控制三通阀开度来调节空调箱盘管进水量。

3）正压:空调箱调节,根据静压感测的信号,自动调节空调箱马达变频器的频率,从而调节进入室内的新风量。

因为无尘车间是为了满足生产工艺对于环境的要求。生产过程中需要对于温湿度有所控制。企业利用净化车间有效降低空气中的灰尘、、病毒等，并实现恒温恒压恒噪，提供良好的生产环境。安徽人和净化为您介绍各行业净化无尘车间标准温湿度。

洁净室是指将一净洁无尘车间是指将一定空间范围内之空气中的微粒子、有害空气、等之污染物排除，并将室内之温度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给予特别设计之车间。亦即是不论外在之空气条件如何变化，其室内均能俱有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能之特性。